我司的氧化鈮靶材采用先進(jìn)的真空熱壓、熱等靜壓、冷壓燒結(jié)和熱噴涂工藝生產(chǎn),產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型。
純度:99.99%;
形狀:圓柱形、平面;
冷壓燒結(jié)平面靶材尺寸:長(zhǎng)寬范圍10-600毫米(可根據(jù)客戶的尺寸定制)。
管靶尺寸:外徑50-160mm,厚度4-17.5mm ;長(zhǎng)度200-4000mm(可根據(jù)客戶的尺寸定制);
密度:4.3 g/cm3~4.5g/cm3,相對(duì)密度>99%;
電阻率:小于0.1 ohm.cm(20 ℃) ;
工藝:氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂工藝,氧化鈮平面靶采用冷壓燒結(jié)、真空熱壓、熱等靜壓三種工藝均可提供 ;
用途:氧化鈮靶材,主要用于薄膜太陽(yáng)能、光學(xué)玻璃鍍膜、觸摸屏AR膜、LOW-E玻璃膜(低輻射玻璃)、半導(dǎo)體、觸摸屏、平板顯示器、工具裝飾鍍膜等。
氧化鈮靶 Niobium oxide target |
性能 Product performance |
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化學(xué)成分/at% Composition |
Nb2Ox,x=4.5~4.8 | |
純度/% Purity |
99.99 | |
密度/g/cm3 Density |
≥4.5 | |
晶粒度/μm Grain size |
≤5 | |
金屬雜質(zhì)總和/ppm Total content of metallic impurities |
≤100 | |
電阻率/Ω.cm Resistivity |
5×10-4 | |
規(guī)格尺寸/mm Size |
平面靶 Planar target |
熱等靜壓/熱壓,≤500×250 Hot isostatic pressing/Hot pressing |
旋轉(zhuǎn)靶 Rotating target |
熱噴涂成形 thermal spraying 長(zhǎng)度Length≤4000 厚度Thickness≤10 |