我司的氧化鈮靶材采用先進(jìn)的真空熱壓、熱等靜壓、冷壓燒結(jié)和熱噴涂工藝生產(chǎn)，產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型。
純度：99.99%；
形狀：圓柱形、平面；
冷壓燒結(jié)平面靶材尺寸：長(zhǎng)寬范圍10-600毫米（可根據(jù)客戶的尺寸定制）。
管靶尺寸：外徑50-160mm，厚度4-17.5mm ；長(zhǎng)度200-4000mm（可根據(jù)客戶的尺寸定制）；
密度：4.3 g/cm3～4.5g/cm3，相對(duì)密度＞99%；
電阻率：小于0.1 ohm.cm（20 ℃） ；
工藝：氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂工藝，氧化鈮平面靶采用冷壓燒結(jié)、真空熱壓、熱等靜壓三種工藝均可提供 ；
用途：氧化鈮靶材，主要用于薄膜太陽(yáng)能、光學(xué)玻璃鍍膜、觸摸屏AR膜、LOW-E玻璃膜（低輻射玻璃）、半導(dǎo)體、觸摸屏、平板顯示器、工具裝飾鍍膜等。
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氧化鈮靶 Niobium oxide target |
性能 Product performance |
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化學(xué)成分/at% Composition |
Nb2Ox，x=4.5～4.8 | |
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純度/% Purity |
99.99 | |
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密度/g/cm3 Density |
≥4.5 | |
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晶粒度/μm Grain size |
≤5 | |
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金屬雜質(zhì)總和/ppm Total content of metallic impurities |
≤100 | |
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電阻率/Ω.cm Resistivity |
5×10-4 | |
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規(guī)格尺寸/mm Size |
平面靶 Planar target |
熱等靜壓/熱壓，≤500×250 Hot isostatic pressing/Hot pressing |
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旋轉(zhuǎn)靶 Rotating target |
熱噴涂成形 thermal spraying 長(zhǎng)度Length≤4000 厚度Thickness≤10 |
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