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陶瓷化合物靶材

氧化鈮靶材

產(chǎn)品簡(jiǎn)述:

我司的氧化鈮靶材采用先進(jìn)的真空熱壓、熱等靜壓和熱噴涂工藝生產(chǎn),產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型。 Our niobium oxide target including rectangular target, arc target and tube target is manufact

13365870915(微信同號(hào))
產(chǎn)品詳細(xì)

我司的氧化鈮靶材采用先進(jìn)的真空熱壓、熱等靜壓、冷壓燒結(jié)和熱噴涂工藝生產(chǎn),產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型。

純度:99.99%;             

形狀:圓柱形、平面;          

冷壓燒結(jié)平面靶材尺寸:長(zhǎng)寬范圍10-600毫米(可根據(jù)客戶的尺寸定制)。

管靶尺寸:外徑50-160mm,厚度4-17.5mm ;長(zhǎng)度200-4000mm(可根據(jù)客戶的尺寸定制);           

 密度:4.3 g/cm3~4.5g/cm3,相對(duì)密度>99%;            

電阻率:小于0.1 ohm.cm(20 ℃) ;            

工藝:氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂工藝,氧化鈮平面靶采用冷壓燒結(jié)、真空熱壓、熱等靜壓三種工藝均可提供    ;         

用途:氧化鈮靶材,主要用于薄膜太陽(yáng)能、光學(xué)玻璃鍍膜、觸摸屏AR膜、LOW-E玻璃膜(低輻射玻璃)、半導(dǎo)體、觸摸屏、平板顯示器、工具裝飾鍍膜等。

  
氧化鈮靶
Niobium oxide target
性能
Product performance
化學(xué)成分/at%
Composition
Nb2Ox,x=4.5~4.8
純度/%
Purity
99.99
密度/g/cm3
Density
≥4.5
晶粒度/μm
Grain size
≤5
金屬雜質(zhì)總和/ppm
Total content of metallic impurities
≤100
電阻率/Ω.cm
Resistivity
5×10-4
規(guī)格尺寸/mm
Size
平面靶
Planar target
熱等靜壓/熱壓,≤500×250
Hot isostatic pressing/Hot pressing
旋轉(zhuǎn)靶
Rotating target
熱噴涂成形
thermal spraying
長(zhǎng)度Length≤4000
厚度Thickness≤10
 
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