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純金屬單質(zhì)靶材

鉬靶材

產(chǎn)品簡述:

鉬靶材 純度:99.95%; 鉬旋轉(zhuǎn)靶采用熱等靜壓工藝,可生產(chǎn)最大長度4000mm,厚度根據(jù)客戶要求定制。 鉬平面靶采用熱等靜壓工藝,可生產(chǎn)最大長度2500mm,最大寬度400mm,尺寸可根據(jù)客戶

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產(chǎn)品詳細(xì)
鉬靶材
純度:99.95%;
鉬旋轉(zhuǎn)靶采用熱等靜壓工藝,可生產(chǎn)最大長度4000mm,厚度根據(jù)客戶要求定制。
鉬平面靶采用熱等靜壓工藝,可生產(chǎn)最大長度2500mm,最大寬度400mm,尺寸可根據(jù)客戶要求加工。
應(yīng)用:廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜、物理濺射鍍膜和太陽能等行業(yè)及乳腺X射線管醫(yī)療行業(yè)等,適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。
應(yīng)用領(lǐng)域:薄膜太陽能工業(yè),低輻射玻璃工業(yè),平板顯示工業(yè),光學(xué)鍍膜工業(yè),工具及裝飾鍍膜工業(yè)。
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