純度:99.7%-99.999%(如2N8,2N6,4N,5N)
牌號: TA1,TA2,TA3,TC4(Ti6AL4V),GR1,GR2,GR3,GR5( Ti6AL4V)
鈦圓靶 :技術(shù)條件:符合GB/T2695-1996,ASTMB348-97
鈦板靶 :技術(shù)條件:符合GB/T3621-94,ASTM B265-93
用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層、玻璃鍍膜工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、節(jié)能玻璃工業(yè)、光學(xué)鍍膜工業(yè)、工具及裝飾鍍膜工業(yè)等。
常規(guī)尺寸規(guī)格:
圓靶:常用規(guī)格:直徑60/65/95/100*厚30/32/40/45mm
板靶:(8-25)mm * (150-400) mm * (1000-2500)mm
鈦旋轉(zhuǎn)靶采用真空熔煉工藝,可生產(chǎn)最大長度4000mm,厚度根據(jù)客戶要求定制。
鈦平面靶采用真空熔煉工藝,可生產(chǎn)最大長度2500mm,最大寬度400mm,尺寸可根據(jù)客戶要求加工。
性能標(biāo)準(zhǔn)
化學(xué)成分符合 GB/T 3621-2007,GB/T 2965-2007,GB/T 3625-2007 等標(biāo)準(zhǔn)。
標(biāo)準(zhǔn)值
化學(xué)成分參考標(biāo)準(zhǔn) |
|||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
牌號 |
Al |
V |
N≤ |
C≤ |
H≤ |
Fe≤ |
O≤ |
其他元素(單一) |
其他元素(總和) |
TA1 |
|
|
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.20 |
0.18 |
0.1 |
0.40 |
TA2 |
|
|
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.30 |
0.25 |
0.1 |
0.40 |
TC4 |
5.5-6.75 |
3.5-4.5 |
0.05 |
0.08 |
0.015 |
0.30 |
0.20 |
0.1 |
0.40 |
機(jī)械性能參考標(biāo)準(zhǔn) |
||||
---|---|---|---|---|
牌號 |
室溫下力學(xué)性能,不小于 |
|||
抗拉強(qiáng)度 |
屈服強(qiáng)度 |
伸長率 |
斷面收縮率 |
|
TA1 |
240 MPa |
170MPa |
25% |
30% |
TA2 |
345MPa |
275 MPa |
20% |
30% |
TC4 |
895MPa |
825 MPa |
10% |
20% |
其它靶材:
產(chǎn)品名稱 |
化學(xué)符號 |
含量 |
性質(zhì) |
---|---|---|---|
鈦濺射靶材 |
Ti |
2N6,4N,5N |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鎳濺射靶材 |
Ni |
2N5, 3N |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鋯濺射靶材 |
Zr |
2N5 |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鎢濺射靶材 |
W |
3N5 |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鉬濺射靶材 |
Mo |
3N5 |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鉭濺射靶材 |
Ta |
3N5, 4N |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鈮濺射靶材 |
Nb |
3N5, 4N |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
銅濺射靶材 |
Cu |
3N8 |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鋁濺射靶材 |
Al |
4N |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鈦鋁合金濺射靶材 |
Ti + Al |
2N7 |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鉬鈮合金濺射靶材 |
Mo+Nb |
3N5 |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鎢鉬合金濺射靶材 |
W+Mo |
3N5 |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鈮鎢合金濺射靶材 |
Nb521 |
3N5 |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鈮鈦合金濺射靶材 |
Nb+Ti |
2N5 |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |
鈮鋯合金濺射靶材 |
Nb+Ti |
2N5 |
平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材 |