鉭靶材:鉭平面靶材、鉭多弧靶材
用途:主要應(yīng)用于半導(dǎo)體鍍膜和光學(xué)鍍膜
牌號:RO5200, RO5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W)
純度:99.9%,99.95% ,99.99%
規(guī)格:
方靶材,厚度x寬度x長度=(1mm~25mm)x≤(10mm-800mm)x≤2000mm
圓靶材,直徑x厚度=Φ(25mm-800mm) x (3mm~28mm)
公差:直徑公差+/- 0.254;
再結(jié)晶:最少95%;
晶粒度:最小40μm;
表面粗糙度:Ra 0.8 最大;
平整度:0.1mm or 0.10% 最大;
成份:
牌號 |
主要成份 |
雜質(zhì)含量 不大于% |
|||||||||||
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Ta |
Nb |
Fe |
Si |
Ni |
W |
Mo |
Ti |
Nb |
O |
C |
H |
N |
|
Ta1 |
剩余 |
—— |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
0.01 |
0.01 |
0.002 |
0.04 |
0.02 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
Ta2 |
剩余 |
—— |
0.03 |
0.02 |
0.005 |
0.04 |
0.03 |
0.005 |
0.1 |
0.03 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
TaNb3 |
剩余 |
<3.5 |
0.03 |
0.03 |
0.005 |
0.04 |
0.03 |
0.005 |
—— |
0.03 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
TaNb20 |
剩余 |
17.0~23.0 |
0.03 |
0.03 |
0.005 |
0.04 |
0.03 |
0.005 |
—— |
0.03 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
Ta2.5W |
剩余 |
|
0.005 |
0.005 |
0.002 |
3.0 |
0.01 |
0.002 |
0.04 |
0.02 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
Ta10W |
剩余 |
|
0.005 |
0.005 |
0.002 |
11 |
0.01 |
0.002 |
0.04 |
0.02 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
我司可提供質(zhì)量優(yōu)良的鉭靶材。純度為3N到5N,晶粒度致密性好,使用性能穩(wěn)定。
應(yīng)用:鉭靶主要應(yīng)用于光導(dǎo)纖維、半導(dǎo)體、集成電路和磁記錄等濺射沉積鍍膜,鉭靶材可用于陰極濺射涂層,高真空吸氣活性材料等。
如有特殊要求,請聯(lián)系我們具體商定。