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純金屬單質(zhì)靶材

鉭靶材

產(chǎn)品簡述:

鉭靶材:鉭平面靶材、鉭多弧靶材
用途:主要應(yīng)用于半導(dǎo)體鍍膜和光學(xué)鍍膜 牌號:RO5200, RO5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W) 純度:99.9%,99.95% ,99.99% 規(guī)格: 方靶材,厚度x寬度x長度=(1mm~

13365870915(微信同號)
產(chǎn)品詳細

鉭靶材:鉭平面靶材、鉭多弧靶材
用途:主要應(yīng)用于半導(dǎo)體鍍膜和光學(xué)鍍膜

牌號:RO5200, RO5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W)

純度:99.9%,99.95% ,99.99%
規(guī)格:

方靶材,厚度x寬度x長度=(1mm~25mm)x≤(10mm-800mm)x≤2000mm
圓靶材,直徑x厚度=Φ(25mm-800mm) x (3mm~28mm)

公差:直徑公差+/- 0.254;

再結(jié)晶:最少95%;

晶粒度:最小40μm;

表面粗糙度:Ra 0.8 最大;

平整度:0.1mm or 0.10% 最大;

成份:

牌號

主要成份

雜質(zhì)含量  不大于%

Ta

Nb

Fe

Si

Ni

W

Mo

Ti

Nb

O

C

H

N

Ta1

剩余

——

0.005

0.005

0.002

0.01

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

Ta2

剩余

——

0.03

0.02

0.005

0.04

0.03

0.005

0.1

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb3

剩余

<3.5

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb20

剩余

17.0~23.0

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

Ta2.5W

剩余

 

0.005

0.005

0.002

3.0

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

Ta10W

剩余

 

0.005

0.005

0.002

11

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

我司可提供質(zhì)量優(yōu)良的鉭靶材。純度為3N到5N,晶粒度致密性好,使用性能穩(wěn)定。
 

應(yīng)用:鉭靶主要應(yīng)用于光導(dǎo)纖維、半導(dǎo)體、集成電路和磁記錄等濺射沉積鍍膜,鉭靶材可用于陰極濺射涂層,高真空吸氣活性材料等。


如有特殊要求,請聯(lián)系我們具體商定。

 

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