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我司提供的鉻靶材采用先進(jìn)的熱等靜壓（HIP）工藝生產(chǎn)，產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶、環(huán)形靶和大長徑比整體成形管靶等類型，具有純度和密度可控、晶粒細(xì)小均勻、使用壽命長等優(yōu)點(diǎn)。

純度：99.5%~99.95%；

成型工藝：熱等靜壓；

常規(guī)尺寸：ID55*OD70*L，ID125*OD153*L ， φ100*40mm，φ150*30mm，φ155*30，φ80*40mm等等；

用途：裝飾鍍膜，工具鍍膜，平面顯示鍍膜，薄膜太陽能工業(yè)，平板顯示工業(yè)，節(jié)能玻璃工業(yè)，光學(xué)鍍膜工業(yè)（如汽車后視鏡鍍膜）等。

 

鉻靶Chromium target		性能Product performance
純度/% Purity		99.5	99.95
密度/g/cm3 Density		≥7.12	≥7.12
晶粒度/μm Grain size		≤100	≤100
金屬雜質(zhì)總和/ppm Total content of metallic impurities		≤5000	≤500
熱導(dǎo)率/W/m.K Thermal conductivity		60	100
熱膨脹系數(shù)/1/K Coefficient of thermal expansion		8×10-6	8×10-6
規(guī)格尺寸/mm Size	平面靶 Planar target	≤1600×500	≤1600×500
	旋轉(zhuǎn)靶 Rotating target	熱等靜壓整體成形 Integral formingby HIP 長度Length≤4000 厚度Thickness≤15	熱等靜壓整體成形 Integral formingby HIP 長度Length≤4000 厚度Thickness≤15

2N5   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3

成分	鐵（Fe）	鋁(Al)	硅(Si)	碳(C)	硫（S）	氧(O)	氮(N)
標(biāo)準(zhǔn)（Standard）	≤1500	≤1200	≤1500	≤200	≤50	≤1400	≤300
測試值（Test values）	980	300	600	62	50	1200	200

 
 
2N8   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3

成分	鐵（Fe）	鋁(Al)	硅(Si)	碳(C)	硫（S）	氧(O)	氮(N)
標(biāo)準(zhǔn)（Standard）	≤800	≤300	≤400	≤200	≤50	≤1000	≤100
測試值（Test values）	740	78	92	84	50	340	30

 
 
3N   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3

成分	鐵（Fe）	鋁(Al)	硅(Si)	碳(C)	硫（S）	氧(O)	氮(N)
標(biāo)準(zhǔn)（Standard）	≤500	≤100	≤150	≤150	≤30	≤500	≤100
測試值（Test values）	290	47	80	90	28	450	50

 
3N5   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3

成分	鐵（Fe）	鋁(Al)	硅(Si)	銅(Cu)	鎳（Ｎi)	碳(C)	硫（S）	氧(O)	氮(N)
標(biāo)準(zhǔn)（Standard）	≤100	≤50	≤50	≤10	≤50	≤50	≤30	≤150	≤80
測試值（Test values）	50	45	40	7	10	24	27	137	30

 
高純鉻顆粒：常用粒度有：1-3mm,3-5mm,40目，-20-300目，40#，60#，80#，200#等用于蒸發(fā)鍍膜，純度高，蒸鍍效果好

鉻旋轉(zhuǎn)靶材、鉻管靶

鉻管靶可加工成熱等靜壓（HIP）整體成型鉻管靶和噴涂鉻管靶，兩種鉻管靶相比，熱等靜壓整體成型鉻管靶具有氧含量低、致密度高、鍍膜均勻致密質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)，缺點(diǎn)成本較高。

 

熱等靜壓鉻管靶

純度：99.8%

工藝：熱等靜壓一體成型高純鉻靶

常用規(guī)格：高純鉻管靶，高純鉻環(huán)靶，長度500~2000mm,直徑:70-155mm,管厚：3-10mm，按您的要求定做。

相對于傳統(tǒng)等離子噴涂，熱等靜壓管靶單邊更加厚，使用壽命更長是，傳統(tǒng)噴涂靶3倍，含氧量更低。

 

噴涂鉻管靶

成型工藝：熱等靜壓、噴涂

用途：工具鍍膜、裝飾鍍膜、建筑玻璃鍍膜

常規(guī)尺寸：ID125xOD145~155xL （mm）

 

 

性能	噴涂鉻管靶材	熱等靜壓整體成形鉻管靶材
氧含量/ppm	≤5000	80-1500
鍍膜均勻性 Deposition uniformity	1.     整管軸向致密度相差較大 2.     整爐上中下L、A、B值相差較大 3.     無法保證產(chǎn)品膜層的一致性	1.     整管均勻性高 2.     密度接近于純金屬熱擠壓密度，管材通體密度一致 3.     無松散區(qū)、無暗區(qū) 4.     PVD膜層的厚度及顏色的一致性好 5.     整爐上中下L、A、B值統(tǒng)一性好
鍍膜電流密度	無法實(shí)現(xiàn)大電流長時間工作	大功率長時間穩(wěn)定工作