硅靶材 單晶硅靶材、多晶硅靶材、噴涂硅管靶 純度: 99.9-99.999% 硅靶材尺寸: ● 尺寸 01 :直徑 360mm 厚度 1mm (形狀:圓片 / 圓臺(tái) / 圓棒); ● 尺寸 02 :長(zhǎng)度 600mm 寬度 400mm 厚度 1m
硅靶材
單晶硅靶材、多晶硅靶材、噴涂硅管靶
純度:99.9-99.999%
硅靶材尺寸:
● 尺寸01:直徑<360mm 厚度>1mm (形狀:圓片/圓臺(tái)/圓棒);
● 尺寸02:長(zhǎng)度<600mm 寬度<400mm 厚度>1mm;形狀:矩形/片材/臺(tái)階狀(可拼接);
● 尺寸03:外直徑<360mm,內(nèi)直徑>1mm,壁度>1mm,長(zhǎng)度>1mm,最長(zhǎng)4000mm(形狀:管材/圓環(huán)/旋轉(zhuǎn)靶材);
制作工藝
真空磁懸浮熔煉 ,澆鑄成錠,熱機(jī)械處理和精密機(jī)械加工;也可硅旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂或者燒結(jié)綁定工藝,硅平面靶采用拉晶生長(zhǎng)工藝。
應(yīng)用領(lǐng)域:薄膜太陽(yáng)能工業(yè),低輻射玻璃工業(yè),平板顯示工業(yè),光學(xué)鍍膜工業(yè),半導(dǎo)體工業(yè),工具及裝飾鍍膜工業(yè)。