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純金屬單質(zhì)靶材

硅靶材

產(chǎn)品簡(jiǎn)述:

硅靶材 單晶硅靶材、多晶硅靶材、噴涂硅管靶 純度: 99.9-99.999% 硅靶材尺寸: ● 尺寸 01 :直徑 360mm 厚度 1mm (形狀:圓片 / 圓臺(tái) / 圓棒); ● 尺寸 02 :長(zhǎng)度 600mm 寬度 400mm 厚度 1m

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產(chǎn)品詳細(xì)

硅靶材

單晶硅靶材、多晶硅靶材、噴涂硅管靶

純度:99.9-99.999%

硅靶材尺寸:

  尺寸01:直徑<360mm 厚度>1mm (形狀:圓片/圓臺(tái)/圓棒);

  尺寸02:長(zhǎng)度<600mm 寬度<400mm 厚度>1mm;形狀:矩形/片材/臺(tái)階狀(可拼接);

  尺寸03:外直徑<360mm,內(nèi)直徑>1mm,壁度>1mm,長(zhǎng)度>1mm,最長(zhǎng)4000mm(形狀:管材/圓環(huán)/旋轉(zhuǎn)靶材);

  制作工藝

  真空磁懸浮熔煉 ,澆鑄成錠,熱機(jī)械處理和精密機(jī)械加工;也可硅旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂或者燒結(jié)綁定工藝,硅平面靶采用拉晶生長(zhǎng)工藝。

  應(yīng)用領(lǐng)域:薄膜太陽(yáng)能工業(yè),低輻射玻璃工業(yè),平板顯示工業(yè),光學(xué)鍍膜工業(yè),半導(dǎo)體工業(yè),工具及裝飾鍍膜工業(yè)。

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