氧化鎂(MgO)單晶基片廣泛應(yīng)用在多個(gè)薄膜技術(shù)領(lǐng)域中。如用于制作磁學(xué)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、光學(xué)薄膜和高溫超導(dǎo)薄膜等。由于MgO單晶在微波波段的介電常數(shù)和損耗都很小,且能得到大面積的基片(直徑2"及更大),所以是當(dāng)前產(chǎn)業(yè)化的重要高溫超導(dǎo)薄膜單晶基片之一。 可用于制作移動(dòng)通訊設(shè)備所需的高溫超導(dǎo)微波濾波器等器件。具有很大的現(xiàn)實(shí)及潛在應(yīng)用市場(chǎng)。
生長(zhǎng)方法
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弧熔法
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晶體結(jié)構(gòu)
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立方
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晶格常數(shù)
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a=4.130 Å
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熔點(diǎn)(℃)
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2800
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純度
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99.95%
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密度(g/cm3)
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3.58
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硬度
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5.5(mohs)
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熱膨脹系數(shù)(/℃)
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11.2x10-6
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晶體解理面
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<100>
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光學(xué)透過(guò)
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>90%(200~400nm),>98%(500~1000nm)
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介電常數(shù)
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ε= 9.65
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熱導(dǎo)率(卡/度 厘米 秒)
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0.14 300°K
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尺寸
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10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,
dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm
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厚度
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0.5mm,1.0mm
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拋光
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單面或雙面
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晶向
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<001>±0.5º
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晶面定向精度:
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±0.5°
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邊緣定向精度:
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2°(特殊要求可達(dá)1°以內(nèi))
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斜切晶片
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可按特定需求,加工邊緣取向的晶面按特定角度傾斜(傾斜角1°-45°)的晶片
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Ra:
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≤5Å(5µm×5µm)
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主要特點(diǎn)
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由于MgO單晶在微波波段的介電常數(shù)和損耗都很小,且能得到大面積的基片(直徑2英吋及更大),所以是當(dāng)前產(chǎn)業(yè)化的重要高溫超導(dǎo)薄膜單晶基片之一。
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主要用途
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用于制作磁學(xué)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、光學(xué)薄膜和高溫超導(dǎo)薄膜等,也可用于制作移動(dòng)通訊設(shè)備所需的高溫超導(dǎo)微波濾波器等器件。
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包裝
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100級(jí)潔凈袋,1000級(jí)超凈室
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